金融界2025年6月13日消息，国家知识产权局信息显示，朗姆研究公司申请一项名为“使用远程等离子体的硅氮化物化学气相沉积”的专利，公开号CN120153121A，申请日期为2023年10月。

专利摘要显示，所公开的示例涉及使用化学气相沉积(CVD)的硅氮化物膜的低损坏沉积。一示例提出了用于通过化学气相沉积以在处理室中的衬底上形成硅氮化物膜的方法(300)。该方法包括：将含氮前体引入(302)在处理工具的远程等离子体室中所形成的远程等离子体中。该方法还包括：在该远程等离子体中形成(308)自由基氮物质。该方法还包括：使无氧含硅前体流动(312)至处理工具的处理室中。该方法还包括：当使无氧含硅前体流动时，将自由基氮物质从远程等离子体室引入(316)处理室中。该方法还包括：使无氧含硅前体与自由基氮物质进行反应，以在衬底上形成硅氮化物膜。

本文源自：金融界